怎么清洗食品加工設(shè)備？

食品加工行業(yè)所使用的機(jī)械和設(shè)備，清洗起來(lái)需要注意的問(wèn)題就很多。因?yàn)檫@些機(jī)械設(shè)備經(jīng)常是和食品接觸，清洗機(jī)械設(shè)備表面的清洗劑有可能會(huì)對(duì)食品造成污染。那么食品加工設(shè)備和機(jī)械怎么清洗呢?

考慮到食品工廠的特點(diǎn)，清洗機(jī)械表面時(shí)要特別注意避免使用有較強(qiáng)毒性的洗滌劑。

1、噴射清洗及使用的堿性清洗劑

在食品機(jī)械清洗中使用最多的是通用堿性洗滌劑，考慮到有的堿劑對(duì)鋼鐵及有色金屬有腐蝕作用。因此使用以硅酸鈉為主要成分并配合其他堿劑、硬水軟化劑、表面活性劑組成的堿劑。

通常采用的方法是把3%~5%的堿劑水溶液噴涂或用刷子涂布在機(jī)械表面。最簡(jiǎn)便而有效的方法是用噴射消洗，用卡車或手推車式的可移動(dòng)噴射清洗裝置，用較低濃度的洗液，在稍高溫度下清洗可獲得較好的效果。代表性的清洗劑配方如下。

【配方一】(重垢型)：

五水偏硅酸鈉(Na2SiO3.5H2O)-------------40%~50%

焦磷酸鈉(Na4P2O3)------------------------10%~15%

碳酸鈉(Na2CO3)----------------------------40%~30%

表面活性劑-------------------------------------4%~7%

此配方只是各種固體成分的質(zhì)最分?jǐn)?shù)，使用時(shí)把它配成一定濃度水溶液，其中焦磷酸鈉可用金屬離子螯合劑代替。

【配方二】(輕垢型)：

壬基酚聚氧乙烯醚---------------------------------15%

焦磷酸鈉(Na4P2O7)----------------------------10%

五水偏硅酸鈉(Na2SiO3.5H2O)------------------5%

倍半酸鈉(NaHCO3.Na2CO2)--------------------40%

硫酸鈉(Na2SO4)---------------------------------30%

由配方二看出，輕垢洗滌劑中表面活性劑所占比例加大。同樣此配方是指固休質(zhì)量分?jǐn)?shù)，使用時(shí)配成一定濃度的水溶液。

2. 位置固定的清洗裝置

這是一種將清洗-殺菌線路與食品加工裝置合為一體的清洗系統(tǒng)

下圖為是牛奶的生產(chǎn)設(shè)備與清洗殺菌消毒設(shè)備連在一起的組成系統(tǒng)。這是一種以密閉的生產(chǎn)罐與配管為主體的制造設(shè)備。這套設(shè)備可以保持高度的清潔性，它具有以下特點(diǎn)。

位置固定的清洗裝置示意

(1)在同一裝置中同時(shí)進(jìn)行清洗殺菌

這套設(shè)備適合對(duì)生產(chǎn)缸體和配管同時(shí)進(jìn)行清洗、消毒殺菌。在生產(chǎn)缸體中采用洗液噴射方式清洗，而在配管中洗液形成紊流效果的清洗。

(2)操作自動(dòng)控制

操作程序控制完全自動(dòng)化，可隨時(shí)啟動(dòng)，只要把必要的控制程序輸入控制器，并把生產(chǎn)缸與清洗殺菌裝置之間的閥門打開(kāi)，清洗殺菌過(guò)程就自動(dòng)進(jìn)行。是一種需時(shí)短、省力、可靠性高的清洗殺菌裝置。

(3)經(jīng)濟(jì)效率高

這套裝置設(shè)計(jì)使用清洗用水、洗滌劑、殺菌劑以及蒸汽的消耗都保持最小。

整個(gè)程序包括以下幾步：

① 預(yù)洗工序。將冷水或溫水送入生產(chǎn)缸中，經(jīng)過(guò)10~15min輕洗，污垢被分散解離形成的廢水被排出缸外。

② 洗滌工序。通常以氫氧化鈉為主要成分，0.2%~1%的強(qiáng)堿性水溶液清洗20min。由于在預(yù)洗工序中大部分污垢己被清除，因此在此工序中堿性洗液的消耗很少，而且可把已用過(guò)的堿液回收，補(bǔ)充消耗掉的堿劑，循環(huán)便用。

③ 中間沖洗工序。把生產(chǎn)缸中附著的殘留堿液用冷水沖洗干凈，大約進(jìn)行20min，目的為減少殺菌液的負(fù)擔(dān)。

④ 殺菌工序。用有效氯濃度為150~200mg/L的次氯酸鈉水溶液進(jìn)行大15min的殺菌，由于殺菌劑消耗很少，可以加以回收并適當(dāng)補(bǔ)充，調(diào)招到原來(lái)的濃度，繼續(xù)使用。

⑤ 最終沖洗工序。再用清水沖洗5min。全部清洗殺菌工藝大約共需1h。這是一種可靠性很高的清洗系統(tǒng)。

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